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La lithographie optique descend jusqu’à 29,9 nm

Semiconducteurs>Production>Etats Unis>Recherche et développement
21/02/2006 11:29:45 :
Les scientifiques d’IBM ont repoussé jusqu’à 29,9 nm les limites de la lithographie optique pour la fabrication des semiconducteurs. C’est trois moins que les procédés actuels 90 nm en production et en dessous de la limite de 32 nm généralement admise pour la lithographie optique.



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