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La lithographie optique descend jusqu’à 29,9 nm

Semiconducteurs>Production>Etats Unis>Recherche et développement
21/02/2006 11:29:45 :
Les scientifiques d’IBM ont repoussé jusqu’à 29,9 nm les limites de la lithographie optique pour la fabrication des semiconducteurs.
 
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C’est trois moins que les procédés actuels 90 nm en production et en dessous de la limite de 32 nm généralement admise pour la lithographie optique.
NOUVEAUX PRODUITS 21/02/2006
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